Материалы компании AZ представлены широкой номенклатурой фоторезистов и химии для литографии. AZ производит позитивные и негативные фоторезисты для процессов жидкостного и сухого травления, а также гальванического осаждения. Также доступны резисты для получения высокого разрешения и процессов обратной (взрывной) фотолитографии. Возможные варианты нанесения: центрифугирование, окунание, спрей.
PL 177 – это универсальный позитивный фоторезист общего назначения, который может использоваться в производстве печатных плат. Подходит для получения относительно высокого разрешения и имеет синеватый цвет для облегчения инспекции. PL 177 может быть нанесён как центрифугированием, так и окунанием. При смешивании этого материала с растворителями можно получить определённые значения вязкости, требуемые для нанесения различными методами.
- Тон: позитивный.
- Толщина плёнки: 1 – 10 мкм.
- Экспонирование: 310 – 440 нм.
- Проявление: AZ Developer, AZ 400K, AZ 826MIF, а также NaOH и KOH растворы.
- Удаление: ацетон, гидроксид натрия и др.
- Техническое описание: PL 177.pdf.
-
Условия поставки
Поставка под заказ. Срок поставки от 6 недель.
Упаковка, хранение и транспортировка
Хранить в упаковке от производителя в плотно закрытом контейнере вдали от солнечных лучей и источников УФ излучения при температуре, указанной на упаковке. Минимальный срок годности составляет 3 месяца. Большинство фоторезистов хранятся в течение 6 месяцев. Упаковку открывать строго в жёлтом свете.
Доступные типы упаковок: 1-, 4-, 5- и 200-литровые контейнеры.
