Под заказ

Фоторезист для оптической и электронной литографии Microchem PMGI

Артикул: 5-354358

  • Тон: позитивный.
  • Толщина плёнки осаждённого материала: 0,02 – 5 мкм
  • Экспонирование: i-линия (365 нм), h-линия (405 нм) и g-линия (436 нм), ГУФ, 193 нм или электронным пучком.
  • Проявление: TMAH и другие металлосодержащие проявители.
  • Удаление: Remover PG.

Условия поставки

 

Поставка под заказ. Срок поставки от 6 недель.

 

Упаковка, хранение и транспортировка

 

Хранить в упаковке от производителя в плотно закрытом контейнере вдали от солнечных лучей и источников УФ излучения при температуре, указанной на упаковке. Минимальный срок годности составляет 3 месяца. Большинство фоторезистов хранятся в течение 6 месяцев. Упаковку открывать строго в жёлтом свете.

 

Данные серии фоторезистов предназначены для процессов обратной литографии. Их использование в паре с обычными фоторезистами позволяет осуществлять процесс двухслойной обратной литографии. Это дает возможность получить разрешения, недостижимые для однослойного процесса, что подразумевает получение слоёв металла толщиной больше 4 мкм при разрешении менее 0,25 мкм. Материалы обладают отличной адгезией и высокой температурной стабильностью.

 

 

  • Тон: позитивный.
  • Толщина плёнки осаждённого материала: 0,02 – 5 мкм
  • Экспонирование: i-линия (365 нм), h-линия (405 нм) и g-линия (436 нм), ГУФ, 193 нм или электронным пучком.
  • Проявление: TMAH и другие металлосодержащие проявители.
  • Удаление: Remover PG.
Запросить цену в 1 клик
Комментарии