Поиск по сайту:

Все производители:
Заказать звонок Ваш город: Москва
Каталог
или
    Войти в личный кабинет Корзина (0)

Eng




Новинки




Система Orphus
Главная страница /  Товары компании Microchem

Товары компании Microchem

Microchem в других разделах




Показано позиций 1-15 из 16
страницы: 1 2  Далее
 
MicrochemФоторезист для гальванического осаждения KAYAKU Microchem KMPR 1000
Фоторезист для гальванического осаждения KAYAKU Microchem KMPR 1000
  • Резист: Негативные фоторезисты
  • Толщина мкм: 8-100
  • Длина волны экспонирования: 350-400 нм
  • Проявитель: TMAH, SU-8 developer и др.
  • Сниматель: Remover PG
Цена предоставляется по запросу
Арт. 1354155 Купить Подробно
 
MicrochemФоторезист для сухого травления Microchem SU-8
Фоторезист для сухого травления Microchem SU-8
  • Резист: Негативный
  • Толщина мкм: 0,5-150
  • Длина волны экспонирования: 350-400 нм
  • Проявитель: SU-8 developer
  • Сниматель: Remover PG
Цена предоставляется по запросу
Арт. 1354166 Купить Подробно
 
MicrochemФоторезист для сухого травления Microchem KMPR 1000
Фоторезист для сухого травления Microchem KMPR 1000
  • Резист: Негативный
  • Толщина мкм: 8-100
  • Длина волны экспонирования: 350-400 нм
  • Проявитель: TMAH, SU-8 developer и др.
  • Сниматель: Remover PG
Цена предоставляется по запросу
Арт. 1354167 Купить Подробно
 
MicrochemФоторезист для электронной литографии Microchem ПММА
Фоторезист для электронной литографии Microchem ПММА
  • Резист: Позитивный
  • Толщина мкм: 0,5-2,0
  • Другие методы экспонирования: я-линия, ГУФ, рентген
  • Проявитель: Разработчик нано ПММА
  • Сниматель: АР 600-71, АР 300-76, АР300-72
Цена предоставляется по запросу
Арт. 1354176 Купить Подробно
 
MicrochemФоторезист для электронной литографии Microchem PMGI/ЛОР
Фоторезист для электронной литографии Microchem PMGI/ЛОР
  • Резист: Позитивный
  • Толщина мкм: 0,5-5,0
  • Другие методы экспонирования: я-, г-. ч-линии, рентген, ГУФ
  • Проявитель: 0.26 Н МИФ 0.24 Н МИФ МИБ
  • Сниматель: 
Цена предоставляется по запросу
Арт. 1354177 Купить Подробно
 
MicrochemФоторезист для оптической и электронной литографии Microchem SU-8
Фоторезист для оптической и электронной литографии Microchem SU-8
  • Тон: негативный.
  • Толщина плёнки: 1 – 100 мкм.
Цена предоставляется по запросу
Арт. 1354356 Купить Подробно
 
MicrochemФоторезист для оптической и электронной литографии Microchem KMPR 1000
Фоторезист для оптической и электронной литографии Microchem KMPR 1000
  • Тон: негативный.
  • Толщина плёнки: 4 – 120 мкм.
  • Экспонирование: i-линия (365н м) или интегральное экспонирование (350 – 400 нм).
  • Проявление: 2,8% TMAH, SU-8 developer или KOH.
Цена предоставляется по запросу
Арт. 1354357 Купить Подробно
 
MicrochemФоторезист для оптической и электронной литографии Microchem PMGI
Фоторезист для оптической и электронной литографии Microchem PMGI
  • Тон: позитивный.
  • Толщина плёнки осаждённого материала: 0,02 – 5 мкм
  • Экспонирование: i-линия (365 нм), h-линия (405 нм) и g-линия (436 нм), ГУФ, 193 нм или электронным пучком.
  • Проявление: TMAH и другие металлосодержащие проявители.
  • Удаление: Remover PG.
Цена предоставляется по запросу
Арт. 1354358 Купить Подробно
 
MicrochemФоторезист для оптической и электронной литографии Microchem LOR
Фоторезист для оптической и электронной литографии Microchem LOR
  • Тон: негативный.
  • Толщина плёнки: 4 – 120 мкм.
  • Экспонирование: i-линия (365н м) или интегральное экспонирование (350 – 400 нм).
  • Проявление: 2,8% TMAH, SU-8 developer или KOH.
Цена предоставляется по запросу
Арт. 1354359 Купить Подробно
 
MicrochemЭлектронные резист для оптической и электронной литографии Microchem PMMA
Электронные резист для оптической и электронной литографии Microchem PMMA
  • Тон: позитивный.
  • Толщина: 0,2 – 2 мкм.
  • Экспонирование: электронным пучком, рентгеновскими лучами или ГУФ.
  • Проявление: MIBK.
Цена предоставляется по запросу
Арт. 1354360 Купить Подробно
 
MicrochemЭлектронные резист для оптической и электронной литографии Microchem PMMA
Электронные резист для оптической и электронной литографии Microchem PMMA
  • Тон: позитивный.
  • Толщина: 0,2 – 2 мкм.
  • Экспонирование: электронным пучком, рентгеновскими лучами или ГУФ.
  • Проявление: MIBK.
Цена предоставляется по запросу
Арт. 1354361 Купить Подробно
 
MicrochemФоторезист для гальванического осаждения KAYAKU Microchem KMPR 1000
Фоторезист для гальванического осаждения KAYAKU Microchem KMPR 1000
  • Резист: Негативные фоторезисты
  • Толщина мкм: 8-100
  • Длина волны экспонирования: 350-400 нм
  • Проявитель: TMAH, SU-8 developer и др.
  • Сниматель: Remover PG
Цена предоставляется по запросу
Арт. 1354559 Купить Подробно
 
MicrochemФоторезист для сухого травления Microchem SU-8
Фоторезист для сухого травления Microchem SU-8
  • Резист: Негативный
  • Толщина мкм: 0,5-150
  • Длина волны экспонирования: 350-400 нм
  • Проявитель: SU-8 developer
  • Сниматель: Remover PG
Цена предоставляется по запросу
Арт. 1354570 Купить Подробно
 
MicrochemФоторезист для сухого травления Microchem KMPR 1000
Фоторезист для сухого травления Microchem KMPR 1000
  • Резист: Негативный
  • Толщина мкм: 8-100
  • Длина волны экспонирования: 350-400 нм
  • Проявитель: TMAH, SU-8 developer и др.
  • Сниматель: Remover PG
Цена предоставляется по запросу
Арт. 1354571 Купить Подробно
Показано позиций 1-15 из 16
страницы: 1 2  Далее
 

Карта сайта | Техническая поддержка anvexa.ru

Copyright © ПРОТЕХ All rights reserved. Все права защищены. Любое использование материалов, их подборки, дизайна и элементов дизайна может осуществляться только с разрешения ООО "ПРОФЕССИОНАЛЬНОЕ ОБОРУДОВАНИЕ и ТЕХНОЛОГИИ".
Москва
МКАД 38 км, владение 4Б, стр.1, офис 214
+7 (495) 662-96-25
Санкт-Петербург
Маршала Говорова д.35, корпус 5, литера Ж, БЦ "Терминал" 2й корпус, 3й этаж, офис 356
+7 (812) 643-23-55
Новосибирск
Красный проспект 220/5, офис 320
+7 (383) 325-31-55