Под заказ

Объектив для промышленных микроскопов Nikon CFI LR Plan Apo NIR-C 50X

Артикул: 5-363520

  • Числовая апертура NA: 0.42
  • Рабочий отрезок WD, мм: 19.00
  • Длина волны, нм: 1064/532
  • Парфокальное расстояние, мм: 95
  • Толщина покровного стекла, мм: 0,3-1,1

Объективы для ближней инфракрасной области CFI NIR обладают высоким пропусканием более 90% в видимом диапазоне и на длине волны 1064 нм. Возможно применение для лазерной обработки полупроводников и дисплеев LCD.

 

Разрушение линзы из-за поглощения лазерного излучения сведено к минимуму, что обеспечивает высокую надежность объектива.

Объектив Числовая апертура NA Рабочий отрезок WD, мм Длина волны, нм Парфокальное расстояние, мм Толщина покровного стекла, мм
CFI LR Plan Apo NIR 20X 0.40 25.00 1064/532 95 -
CFI LR Plan Apo NIR 50X 0.42 20.00 1064/532 95 -
CFI LR Plan Apo NIR-C 20X 0.40 24.00 1064/532 95 0,3-1,1
CFI LR Plan Apo NIR-C 50X 0.42 19.00 1064/532 95 0,3-1,1
Запросить цену в 1 клик
Комментарии