Материалы для литографии Microchem
Артикул: 5-354559
- Резист: Негативные фоторезисты
- Толщина мкм: 8-100
- Длина волны экспонирования: 350-400 нм
- Проявитель: TMAH, SU-8 developer и др.
- Сниматель: Remover PG
Артикул: 5-354570
- Резист: Негативный
- Толщина мкм: 0,5-150
- Длина волны экспонирования: 350-400 нм
- Проявитель: SU-8 developer
- Сниматель: Remover PG
Артикул: 5-354571
- Резист: Негативный
- Толщина мкм: 8-100
- Длина волны экспонирования: 350-400 нм
- Проявитель: TMAH, SU-8 developer и др.
- Сниматель: Remover PG
Артикул: 5-354579
- Резист: Позитивный
- Толщина мкм: 0,5-2,0
- Другие методы экспонирования: я-линия, ГУФ, рентген
- Проявитель: Разработчик нано ПММА
- Сниматель: АР 600-71, АР 300-76, АР300-72
Артикул: 5-354580
- Резист: Позитивный
- Толщина мкм: 0,5-5,0
- Другие методы экспонирования: я-, г-. ч-линии, рентген, ГУФ
- Проявитель: 0.26 Н МИФ 0.24 Н МИФ МИБ
- Сниматель:
Вход на сайт
Раздел в разработке.
Отменить заказ
Ваша корзина
| Наименование | Цена | Кол-во | Стоимость | Удалить |
Ваша корзина пока пуста. | ||||
Итого:0 руб.
Ваша корзина