Материалы компании AZ представлены широкой номенклатурой фоторезистов и химии для литографии. AZ производит позитивные и негативные фоторезисты для процессов жидкостного и сухого травления, а также гальванического осаждения. Также доступны резисты для получения высокого разрешения и процессов обратной (взрывной) фотолитографии. Возможные варианты нанесения: центрифугирование, окунание, спрей.
Данный позитивный фоторезист обладает превосходной адгезией ко всем типам поверхностей, что делает его отличным выбором для процессов жидкостного травления. Он практически не прилипает к фотошаблону, что позволяет его использовать не только в контактной фотолитографии, но и при изготовлении печатных плат, электроосаждении и других процессах.
- Тон: позитивный.
- Толщина плёнки: 1 мкм.
- Экспонирование: 310 – 420 нм.
- Проявление: AZ 303 Developer.
- Удаление: AZ 100 Remover.
- Техническое описание: AZ 111 XFS.pdf.
-
Условия поставки
Поставка под заказ. Срок поставки от 6 недель.
Упаковка, хранение и транспортировка
Хранить в упаковке от производителя в плотно закрытом контейнере вдали от солнечных лучей и источников УФ излучения при температуре, указанной на упаковке. Минимальный срок годности составляет 3 месяца. Большинство фоторезистов хранятся в течение 6 месяцев. Упаковку открывать строго в жёлтом свете.
Доступные типы упаковок: 1-, 4-, 5- и 200-литровые контейнеры.
