Фоторезист CRC Kontakt Chemie

Фоторезист
Назначение
К фоторорезистам относятся светочувствительные материалы, которые наносятся на плату или другую подложку для создания с их помощью соответствующего шаблону рисунка. После экспонирования некоторые участки слоя фоторезиста меняют свои свойства, что приводит, в конечном счете, к появлению окон, обеспечивающих в процессе фотолитографии или фотогравировки свободный доступ служащих для травления химических реагентов.

Особенности
Фоторезисты, как правило, производят на полимерной основе, которая в результате экспонирования либо разрушается (позитивный фоторезист), либо напротив, приводит к полимеризации участка (позитивный фоторезист). Оба варианта могут существовать либо в виде тонких плёнок (сухой фоторезист), либо иметь жидкую или аэрозольную упаковку.

В первом варианте плёнка наносится на подложку посредством ламинатора. Жидкие фоторезисты наносятся на плату окунанием, поливом с последующим центрифугированием, накатыванием с помощью валиков, а также обычным или электростатическим распылением.

Важнейшим параметром материалов является максимально достижимое разрешение элементов изображения, которое у сухих пленочных фоторезистов лежит в пределах 125-250 мкм (против 0,35 - 0,5 микрон у жидких композиций). Это обстоятельство является решающим, когда речь идёт о производстве изделий со сверхплотным монтажом, а также при изготовлении многослойных печатных плат.

Современные жидкие фоторезисты с высокой разрешающей способностью изготовляют из смеси сополимеров на основе метакриловой кислоты, олигомера типа олигоэфирметакрилатов, изопропилового спирта и светочувствительных добавок, которые служат в роли инициатора полимеризации. При изготовлении сухих плёночных фоторезистов применяются ультратонкие лавсановые и полиэтиленовые плёнки, между которыми содержится светочувствительный слой толщиной в 30-50 мкм.