Материалы для литографии Microresist Technology
Артикул: 5-354491
- Толщина, нм 100; 200; 300
- Тип материала Термопласт
- Температура стеклования Tg 55
- Температура печати 120-140
- Температура освобождения 30-50
Артикул: 5-354492
- Толщина, нм 100; 200; 300
- Тип материала Термопласт
- Температура стеклования Tg 105
- Температура печати 150-180
- Температура освобождения 80-100
Артикул: 5-354493
- Толщина, нм 100; 200; 300
- Тип материала Термопласт
- Температура стеклования Tg 85
- Температура печати 130-150
- Температура освобождения 60-80
Артикул: 5-354494
- Толщина, нм 60; 100; 200
- Тип материала Термопласт
- Температура стеклования Tg 63
- Температура печати 120
- Температура освобождения 30-50
Артикул: 5-354495
- Толщина, нм 100; 200; 300; 500; 1000
- Тип материала Термоотверждаемый полимер
- Температура стеклования Tg 35
- Температура печати 90-140
- Температура освобождения 90-140
Артикул: 5-354496
- Толщина, нм 240
- Тип материала УФ-отверждаемый мономер
- Температура стеклования Tg -
- Температура печати 20
- Температура освобождения 20
Артикул: 5-354497
- Толщина, нм 100; 200; 300
- Тип материала УФ-отверждаемый мономер
- Температура стеклования Tg -
- Температура печати -
- Температура освобождения -
Артикул: 5-354498
- Толщина, нм 1700
- Тип материала УФ-отверждаемый мономер
- Температура стеклования Tg -
- Температура печати -
- Температура освобождения -
Артикул: 5-354499
- Толщина, нм 100; 200; 300
- Тип материала УФ-отверждаемая смола
- Температура стеклования Tg 1 (до отверждения)
- Температура печати -
- Температура освобождения -
Артикул: 5-354528
- Толщина, мкм 5-8
- Длина волны экспонирования i-линия либо broadband
- Проявитель ma-D 331/S, ma-D 332/S
- Сниматель mr-Rem 660, mr-Rem 400, ma-R 404/S
Артикул: 5-354529
- Толщина, мкм 0,5-3
- Длина волны экспонирования 300 — 410 нм
- Проявитель воднощелочные растворы
- Сниматель Cтанд. сниматели
Артикул: 5-354536
- Толщина мкм: 0,5-8
- Длина волны экспонирования:i,h,g линии
- Проявитель :ma-D 331, ma-D 531
- Сниматель :mr-Rem 660, mr-Rem 400, ma-R 404
Артикул: 5-354541
- Толщина мкм: 5-8
- Длина волны 300 — 380 нм
- Проявитель :ma-D 332/S и ma-D 331/S
- Сниматель :Cтанд. сниматели
Артикул: 5-354542
- Толщина мкм: 0,5-4
- Длина волны 300 — 410 нм
- Проявитель :ma-D 533/S
- Сниматель :Cтанд. сниматели
Артикул: 5-354554
Фоторезист для гальванического осаждения Microresist Technology Microresist Technology ma-P 1200
Под заказ
- Резист: Позитивный фоторезист
- Толщина мкм: 0,5-8
- Длина волны экспонирования: i,h,g линии
- Проявитель: воднощелочные растворы
- Сниматель: Cтанд. сниматели
Артикул: 5-354572
- Резист: Негативный
- Толщина мкм: 5-8
- Длина волны экспонирования: 300 — 380 нм
- Проявитель: воднощелочные растворы
- Сниматель: Cтанд. сниматели
Артикул: 5-354573
- Резист: Негативный
- Толщина мкм: 0,5-3
- Длина волны экспонирования: 300 — 410 нм
- Проявитель: воднощелочные растворы
- Сниматель: Cтанд. сниматели
Артикул: 5-354586
- Резист: Негативный
- Толщина мкм: 0,5
- Другие методы экспонирования: ГУФ
- Проявитель: мА-д-333, мА-д 532, миф 726
- Сниматель: мА-Р 404
Артикул: 5-354591
- Применение: Активатор адгезии
- Особенности: Активатор адгезии для гибридных полимеровв
Артикул: 5-354593
- Применение: Активатор адгезии
- Особенности: Активатор адгезии УФ-отверждаемых резистов для НИЛ
Вход на сайт
Раздел в разработке.
Отменить заказ
Ваша корзина
| Наименование | Цена | Кол-во | Стоимость | Удалить |
Ваша корзина пока пуста. | ||||
Итого:0 руб.
Ваша корзина