Наноимпринтная литография (НИЛ) находит всё более широкое применение в области быстрого прототипирования и производства изделий микроэлектроники. Этот процесс характеризуется чрезвычайно высокой простотой и высочайшим топологическим разрешением (единицы и десятки нанометров). Резисты, применяемые для импринтной литографии, должны обладать рядом отличий от резистов, используемых в классической литографии. Они должны создавать относительно тонкие покрытия на поверхности пластины, обладать высокой адгезией по отношению к материалу подложки и низкой — по отношению к материалу штампа.
Основные характеристики
|
Резист |
Толщина, нм |
Тип материала |
Температура стеклования Tg |
Температура печати |
Температура освобождения |
|
100; 200; 300 |
Термопласт |
55 |
120-140 |
30-50 |
|
|
100; 200; 300 |
Термопласт |
105 |
150-180 |
80-100 |
|
|
300; 1000; 5000 |
Термопласт |
85 |
130-150 |
60-80 |
|
|
60; 100; 200 |
Термопласт |
63 |
120 |
30-50 |
|
|
100; 200; 300; 500; 1000 |
Термоотверждаемый полимер |
35 |
90-140 |
90-140 |
|
|
240 |
УФ-отверждаемый мономер |
- |
20 |
20 |
|
|
100; 200; 300 |
УФ-отверждаемый мономер |
- |
- |
- |
|
|
1700 |
УФ-отверждаемый мономер |
- |
- |
- |
|
|
100; 200; 300 |
УФ-отверждаемая смола |
1 (до отверждения) |
- |
- |
Условия поставки
Резисты для импринтной литографии поставляются под заказ
Упаковка
Резисты для импринтной литографии упакованы в бутылки и банки различного объёма.
Хранение и транспортировка
Срок годности и условия хранения резистов для импринтной литографии указаны в техническом описании на данные продукты. Заморозка материалов недопустима.
