Фоторезисты негативные Microresist Technology

Артикул: 5-354329

  • Тон: позитивный.
  • Толщина плёнки: 0,5 – 7,5 мкм.
  • Экспонирование: i-линия (365 нм), h-линия (405 нм) и g-линия (436 нм) или интегральное экспонирование (350 – 400 нм).

Артикул: 5-354330

  • Тон: негативный.
  • Толщина плёнки: 0,1 – 1 мкм.
  • Экспонирование: электронным лучом или ГУФ.
  • Проявление: воднощелочными растворами.

Артикул: 5-354331

  • Тон: негативный.
  • Толщина плёнки: 0,1 – 1 мкм.
  • Экспонирование: электронным лучом или ГУФ.
  • Проявление: воднощелочными растворами.