Фоторезисты негативные
Артикул: 5-354374
- Тон: позитивный.
- Толщина плёнки: 0,5 – 3 мкм.
- Экспонирование: i-линия (365 нм), h-линия (405 нм) и g-линия (436 нм) или интегральное экспонирование (350 – 400 нм).
Артикул: 5-354375
- Тон: позитивный.
- Толщина плёнки: 0,5 – 3 мкм.
- Экспонирование: i-линия (365 нм), h-линия (405 нм) и g-линия (436 нм) или интегральное экспонирование (350 – 400 нм).
Артикул: 5-354376
- Тон: позитивный.
- Толщина плёнки: 0,5 – 3 мкм.
- Экспонирование: i-линия (365 нм), h-линия (405 нм) и g-линия (436 нм) или интегральное экспонирование (350 – 400 нм).
Артикул: 5-354377
- Тон: позитивный.
- Толщина плёнки: 0,5 – 3 мкм.
- Экспонирование: i-линия (365 нм), h-линия (405 нм) и g-линия (436 нм) или интегральное экспонирование (350 – 400 нм).
Артикул: 5-354378
- Тон: позитивный.
- Толщина плёнки: 1 мкм.
- Экспонирование: 310 – 420 нм.
- Проявление: AZ 303 Developer.
Артикул: 5-354379
- Тон: позитивный.
- Толщина плёнки: 2,5 – 5 мкм (AZ 4533) и 4,5 – 30 мкм (AZ 4562).
- Экспонирование: 320 – 440 нм.
Артикул: 5-354380
- Тон: позитивный.
- Толщина плёнки: 2,5 – 5 мкм (AZ 4533) и 4,5 – 30 мкм (AZ 4562).
- Экспонирование: 320 – 440 нм.
Артикул: 5-354381
- Тон: позитивный.
- Толщина плёнки: 0,5 – 20 мкм.
- Экспонирование: 320 – 440 нм.
Артикул: 5-354382
- Тон: обращаемый (image-reversal).
- Толщина плёнки: 1 – 2 мкм.
- Экспонирование: 310 – 420 нм.
Артикул: 5-354383
- Тон: позитивный.
- Толщина плёнки: 1,0 – 1,7 мкм (AZ 6612) и 2,6 – 4,5 мкм (AZ 6632).
- Экспонирование: 320 – 440 нм.
Артикул: 5-354384
- Тон: позитивный.
- Толщина плёнки: 5 – 20 мкм.
- Экспонирование: 320 – 440 нм.
Артикул: 5-354385
- Тон: позитивный.
- Толщина плёнки: 1 – 10 мкм.
- Экспонирование: 310 – 440 нм.
Артикул: 5-354386
- Тон: позитивный.
- Толщина плёнки: 0,5 – 1,8 мкм.
- Экспонирование: i-линия (365 нм), g-линия (436 нм) или интегральное экспонирование (350 – 400 нм).
- Проявление: TMAH растворы.
Артикул: 5-354387
- Тон: негативный.
- Толщина плёнки: 5 – 20 мкм (AZ 15 nXT) и 30 – 100 мкм (AZ 125 nXT).
- Экспонирование: i-линия (365 нм).
- Проявление: AZ 326/726/826 MIF.
Артикул: 5-354388
- Тон: негативный.
- Толщина плёнки: 5 – 20 мкм (AZ 15 nXT) и 30 – 100 мкм (AZ 125 nXT).
- Экспонирование: i-линия (365 нм).
- Проявление: AZ 326/726/826 MIF.
Артикул: 5-354389
- Тон: позитивный.
- Толщина плёнки: 15 – 100 мкм.
- Экспонирование: i-линия (365 нм), h-линия (405 нм) и g-линия (436 нм).
- Проявление: AZ 300 MIF.
Артикул: 5-354390
- Тон: негативный.
- Толщина плёнки: 2 мкм (AZ nLOF 2020), 3,5 мкм (AZ nLOF 2035) и 7 мкм (AZ nLOF 2070).
- Экспонирование: i-линия (365 нм) и экспонирование электронами.
Артикул: 5-354329
Резист для оптической, электронной и наноимпринтной литографии Microresist Technology ma-P 1200
Под заказ
- Тон: позитивный.
- Толщина плёнки: 0,5 – 7,5 мкм.
- Экспонирование: i-линия (365 нм), h-линия (405 нм) и g-линия (436 нм) или интегральное экспонирование (350 – 400 нм).
Артикул: 5-354330
Резист для оптической, электронной и наноимпринтной литографии Microresist Technology ma-N 400
Под заказ
- Тон: негативный.
- Толщина плёнки: 0,1 – 1 мкм.
- Экспонирование: электронным лучом или ГУФ.
- Проявление: воднощелочными растворами.
Артикул: 5-354331
Резист для оптической, электронной и наноимпринтной литографии Microresist Technology ma-N 1400
Под заказ
- Тон: негативный.
- Толщина плёнки: 0,1 – 1 мкм.
- Экспонирование: электронным лучом или ГУФ.
- Проявление: воднощелочными растворами.
Вход на сайт
Раздел в разработке.
Отменить заказ
Ваша корзина
| Наименование | Цена | Кол-во | Стоимость | Удалить |
Ваша корзина пока пуста. | ||||
Итого:0 руб.
Ваша корзина