Под заказ

Резист для оптической, электронной и наноимпринтной литографии Microresist Technology ma-N 400

Артикул: 5-354330

  • Тон: негативный.
  • Толщина плёнки: 0,1 – 1 мкм.
  • Экспонирование: электронным лучом или ГУФ.
  • Проявление: воднощелочными растворами.

Негативные фоторезисты серий ma-N 400 и ma-N 1400 созданы для производства МЭМС и обратной (взрывной) фотолитографии. Эти материалы демонстрируют высокую стабильность в процессах жидкостного и сухого травления, высокую температурную устойчивость (до 110оС для ma-N 400 и до 160оС для ma-N 1400); имеют настраиваемый профиль. Широкий спектр доступных вязкостей позволяет выбрать оптимальный фоторезист для получения желаемой толщины плёнки.

 

  • Тон: негативный.
  • Толщина плёнки: 4,1 – 7,5 мкм (ma-N 400) и 0,5 – 4 мкм (ma-N 1400).
  • Экспонирование: 300 – 380 нм (ma-N 400) и 300 – 410 нм (ma-N 1400).
  • Проявление: воднощелочными растворами.

 

Электронный / ГУФ резист серии ma-N 2400

Негативный резист ma-N 2400 широко используется в микро- и наноэлектронике для создания и изменения структур в Si, SiO2, металлах и полупроводниках. Подходит для электронной литографии, фотолитографии в ГУФ, а также используется для создания штампа в технологии наноимпринтной литографии. Кроме того, обладает высокой термической и химической устойчивостью, что позволяет использовать его для процессов травления. Данный резист позволяет получать разрешения до 30 нм.

 

 

  • Тон: негативный.
  • Толщина плёнки: 0,1 – 1 мкм.
  • Экспонирование: электронным лучом или ГУФ.
  • Проявление: воднощелочными растворами.
  • Техническое описание: ma-N 2400.pdf.

 

Резисты EpoCore и EpoClad для создания планарных волноводов

Резисты EpoCore и EpoClad используются для создания оптических планарных волноводов методами литографии. Данные материалы позволяют управлять коэффициентом преломления и имеют высокий коэффициент пропускания на длине волны 850 нм. Устойчивы к высоким температурам и давлениям.

Полимеры OrmoStamp для наноимпринтной литографии

Данные полимеры используются в процессе наноимпринтной литографии. Наносятся на подложку традиционными методами. Доступен вариант резиста для дозирования из шприца. Отверждаются с помощью температуры или воздействия УФ излучения. Устойчивы к воздействию различных травителей. Позволяют создавать наноразмерные структуры.

Органическо-неорганические гибридные полимеры Ormocore и Ormoclad

Полимеры Orcmocore и Ormoclad используются для создания планарных для микро- и нанооптических структур и оптических волокон. Ormocore является оптически прозрачным фоточувствительным материалом, из которого формируется оптоволоко, OrcmoClad-основание для создания оптоволокна.

Условия поставки

Поставка под заказ. Срок поставки от 6 недель.

Упаковка, хранение и транспортировка

Срок годности 6 месяцев. Хранить в упаковке от производителя вдали от солнечных лучей и источников УФ излучения. Упаковку открывать строго в жёлтом свете.

Сравнительная таблица для выбора резистов

 

 

Запросить цену в 1 клик
Комментарии