Фоторезисты негативные Microchem

Артикул: 5-354356

  • Тон: негативный.
  • Толщина плёнки: 1 – 100 мкм.

Артикул: 5-354357

  • Тон: негативный.
  • Толщина плёнки: 4 – 120 мкм.
  • Экспонирование: i-линия (365н м) или интегральное экспонирование (350 – 400 нм).
  • Проявление: 2,8% TMAH, SU-8 developer или KOH.

Артикул: 5-354358

  • Тон: позитивный.
  • Толщина плёнки осаждённого материала: 0,02 – 5 мкм
  • Экспонирование: i-линия (365 нм), h-линия (405 нм) и g-линия (436 нм), ГУФ, 193 нм или электронным пучком.
  • Проявление: TMAH и другие металлосодержащие проявители.
  • Удаление: Remover PG.

Артикул: 5-354359

  • Тон: негативный.
  • Толщина плёнки: 4 – 120 мкм.
  • Экспонирование: i-линия (365н м) или интегральное экспонирование (350 – 400 нм).
  • Проявление: 2,8% TMAH, SU-8 developer или KOH.

Артикул: 5-354360

  • Тон: позитивный.
  • Толщина: 0,2 – 2 мкм.
  • Экспонирование: электронным пучком, рентгеновскими лучами или ГУФ.
  • Проявление: MIBK.

Артикул: 5-354361

  • Тон: позитивный.
  • Толщина: 0,2 – 2 мкм.
  • Экспонирование: электронным пучком, рентгеновскими лучами или ГУФ.
  • Проявление: MIBK.