Поиск по сайту:

Все производители:
Заказать звонок Ваш город:
Каталог
или
    Войти в личный кабинет Корзина (0)

Eng




Новинки




Система Orphus
ПАЯЛЬНАЯ СТАНЦИЯ ТЕРМОПРО АЛЬФА-100
Главная страница / Каталог по назначению /  Микроэлектроника /  Кристальное производство /  Фоторезисты, электронные резисты, химия для литографии

Фоторезисты, электронные резисты, химия для литографии

Фоторезисты негативные Активаторы адгезии


Показано позиций 1-15 из 33
страницы: 1 2 3  Далее
 
Microresist Technology Резист для оптической, электронной и наноимпринтной литографии Microresist Technology ma-P 1200
Резист для оптической, электронной и наноимпринтной литографии Microresist Technology ma-P 1200
  • Тон: позитивный.
  • Толщина плёнки: 0,5 – 7,5 мкм.
  • Экспонирование: i-линия (365 нм), h-линия (405 нм) и g-линия (436 нм) или интегральное экспонирование (350 – 400 нм).
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
Microresist Technology Резист для оптической, электронной и наноимпринтной литографии Microresist Technology ma-N 400
Резист для оптической, электронной и наноимпринтной литографии Microresist Technology ma-N 400
  • Тон: негативный.
  • Толщина плёнки: 0,1 – 1 мкм.
  • Экспонирование: электронным лучом или ГУФ.
  • Проявление: воднощелочными растворами.
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
Microresist Technology Резист для оптической, электронной и наноимпринтной литографии Microresist Technology ma-N 1400
Резист для оптической, электронной и наноимпринтной литографии Microresist Technology ma-N 1400
  • Тон: негативный.
  • Толщина плёнки: 0,1 – 1 мкм.
  • Экспонирование: электронным лучом или ГУФ.
  • Проявление: воднощелочными растворами.
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
Microchem Фоторезист для оптической и электронной литографии Microchem SU-8
Фоторезист для оптической и электронной литографии Microchem SU-8
  • Тон: негативный.
  • Толщина плёнки: 1 – 100 мкм.
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
Microchem Фоторезист для оптической и электронной литографии Microchem PMGI
Фоторезист для оптической и электронной литографии Microchem PMGI
  • Тон: позитивный.
  • Толщина плёнки осаждённого материала: 0,02 – 5 мкм
  • Экспонирование: i-линия (365 нм), h-линия (405 нм) и g-линия (436 нм), ГУФ, 193 нм или электронным пучком.
  • Проявление: TMAH и другие металлосодержащие проявители.
  • Удаление: Remover PG.
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
Microchem Фоторезист для оптической и электронной литографии Microchem KMPR 1000
Фоторезист для оптической и электронной литографии Microchem KMPR 1000
  • Тон: негативный.
  • Толщина плёнки: 4 – 120 мкм.
  • Экспонирование: i-линия (365н м) или интегральное экспонирование (350 – 400 нм).
  • Проявление: 2,8% TMAH, SU-8 developer или KOH.
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
Microchem Фоторезист для оптической и электронной литографии Microchem LOR
Фоторезист для оптической и электронной литографии Microchem LOR
  • Тон: негативный.
  • Толщина плёнки: 4 – 120 мкм.
  • Экспонирование: i-линия (365н м) или интегральное экспонирование (350 – 400 нм).
  • Проявление: 2,8% TMAH, SU-8 developer или KOH.
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
Microchem Электронные резист для оптической и электронной литографии Microchem PMMA
Электронные резист для оптической и электронной литографии Microchem PMMA
  • Тон: позитивный.
  • Толщина: 0,2 – 2 мкм.
  • Экспонирование: электронным пучком, рентгеновскими лучами или ГУФ.
  • Проявление: MIBK.
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
Microchem Электронные резист для оптической и электронной литографии Microchem PMMA
Электронные резист для оптической и электронной литографии Microchem PMMA
  • Тон: позитивный.
  • Толщина: 0,2 – 2 мкм.
  • Экспонирование: электронным пучком, рентгеновскими лучами или ГУФ.
  • Проявление: MIBK.
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
MicroChemicals Обращаемые (image-reversal) фоторезисты серии TI для обратной литографии MicroChemicals TI 35 E
Обращаемые (image-reversal) фоторезисты серии TI для обратной литографии MicroChemicals TI 35 E
  • Тон: обращаемый (image-reversal).
  • Толщина плёнки: 2,5 – 5 мкм.
  • Экспонирование: i-линия (365 нм), h-линия (405 нм), g-линия (436 нм) или интегральное экспонирование.
  • Проявление: AZ 826 MIF, AZ 400K и др.
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
MicroChemicals Обращаемые (image-reversal) фоторезисты серии TI для обратной литографии MicroChemicals TI xLift
Обращаемые (image-reversal) фоторезисты серии TI для обратной литографии MicroChemicals TI xLift
  • Тон: обращаемый (image-reversal).
  • Толщина плёнки: 6 – 20 мкм.
  • Экспонирование: i-линия (365 нм), h-линия (405 нм), g-линия (436 нм) или интегральное экспонирование.
  • Проявление: AZ 826 MIF, AZ 400K и др.
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
MicroChemicals Обращаемые (image-reversal) фоторезисты серии TI для обратной литографии MicroChemicals TI Plating
Обращаемые (image-reversal) фоторезисты серии TI для обратной литографии MicroChemicals TI Plating

Обращаемые (Image-reversal) фоторезисты для нанесения аэрозольным распылением. Предназначены для процессов обратной литографии и жидкостного химического травления и могут быть использованы как позитивные или обращены и использованы как негативные. Вязкость этих фоторезистов подобрана таким образом, что позволяет использовать их для аэрозольного распыления и получать плёнки толщиной от 2 до 20 мкм (TI Plating) и от 1 до 10 мкм (TI Spray).

 

  • Тон: обращаемый (image-reversal).
  • Толщина плёнки: 1 – 10 мкм (TI Spray), 2 – 20 мкм (TI Plating).
  • Экспонирование: i-линия (365 нм), h-линия (405 нм), g-линия (436 нм) или интегральное экспонирование.
  • Проявление: AZ 826 MIF, AZ 400K и др.
  • Жидкости для обратной литографии: PGMEA, NMP, MMP, EEP, DMF или ацетон.
  • Удаление: AZ 100 Remover или ацетон.
  • Техническое описание: TI Spray.pdfTI Plating.pdf.
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
MicroChemicals Обращаемые (image-reversal) фоторезисты серии TI для обратной литографии MicroChemicals TI Spray
Обращаемые (image-reversal) фоторезисты серии TI для обратной литографии MicroChemicals TI Spray
  • Обращаемые (Image-reversal) фоторезисты для нанесения аэрозольным распылением. Предназначены для процессов обратной литографии и жидкостного химического травления и могут быть использованы как позитивные или обращены и использованы как негативные. Вязкость этих фоторезистов подобрана таким образом, что позволяет использовать их для аэрозольного распыления и получать плёнки толщиной от 2 до 20 мкм (TI Plating) и от 1 до 10 мкм (TI Spray).
  • Тон: обращаемый (image-reversal).
  • Толщина плёнки: 1 – 10 мкм (TI Spray), 2 – 20 мкм (TI Plating).
  • Экспонирование: i-линия (365 нм), h-линия (405 нм), g-линия (436 нм) или интегральное экспонирование.
  • Проявление: AZ 826 MIF, AZ 400K и др.
  • Жидкости для обратной литографии: PGMEA, NMP, MMP, EEP, DMF или ацетон.
  • Удаление: AZ 100 Remover или ацетон.
  • Техническое описание: TI Spray.pdfTI Plating.pdf.
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
MicroChemicals Усилитель адгезии MicroChemicals TI Prime
Усилитель адгезии MicroChemicals TI Prime
  • Усилитель адгезии TI Prime предназначен для улучшения адгезии фоторезистов на таких поверхностях как, например, кремний и стекло.
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
AZ Electronic Materials Фоторезист для оптической и электронной литографии AZ Elektronik Materi AZ 1500
Фоторезист для оптической и электронной литографии AZ Elektronik Materi AZ 1500
  • Тон: позитивный.
  • Толщина плёнки: 0,5 – 3 мкм.
  • Экспонирование: i-линия (365 нм), h-линия (405 нм) и g-линия (436 нм) или интегральное экспонирование (350 – 400 нм).
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
Показано позиций 1-15 из 33
страницы: 1 2 3  Далее
 
Карта сайта | Техническая поддержка anvexa.ru

Copyright © ПРОТЕХ All rights reserved. Все права защищены. Любое использование материалов, их подборки, дизайна и элементов дизайна может осуществляться только с разрешения ООО "ПРОФЕССИОНАЛЬНОЕ ОБОРУДОВАНИЕ и ТЕХНОЛОГИИ".

Москва
МКАД 38 км, владение 4Б, стр.1, офис 214
+7 (495) 662-96-25
Санкт-Петербург
ул. Ивана Черных 31-33, офис 514, БЦ «Аквамарин»
+7 (812) 643-23-55
Новосибирск
Красный проспект 220/5, офис 320
+7 (383) 325-31-55