Поиск по сайту:

Заказать звонок Ваш город:
Каталог
или
    Войти в личный кабинет Корзина (0)

Eng




Новинки




Система Orphus
ПАЯЛЬНАЯ СТАНЦИЯ ТЕРМОПРО АЛЬФА-100
Главная страница / Каталог по назначению /  Микроэлектроника /  Оборудование для кристального производства

Оборудование для кристального производства


Показано позиций 1-15 из 438
страницы: 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10  ...  30  Далее
 
Microresist Technology Фоторезисты для импринтной литографии Microresist Technology mr-I 7000R
Фоторезисты для импринтной литографии Microresist Technology mr-I 7000R
  • Толщина, нм 100; 200; 300
  • Тип материала Термопласт
  • Температура стеклования Tg 55
  • Температура печати 120-140
  • Температура освобождения 30-50
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
Microresist Technology Фоторезисты для импринтной литографии Microresist Technology mr-I 8000R
Фоторезисты для импринтной литографии Microresist Technology mr-I 8000R
  • Толщина, нм 100; 200; 300
  • Тип материала Термопласт
  • Температура стеклования Tg 105
  • Температура печати 150-180
  • Температура освобождения 80-100
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
Microresist Technology Фоторезисты для импринтной литографии Microresist Technology mr-I T-85
Фоторезисты для импринтной литографии Microresist Technology mr-I T-85
  • Толщина, нм 100; 200; 300
  • Тип материала Термопласт
  • Температура стеклования Tg 85
  • Температура печати 130-150
  • Температура освобождения 60-80
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
Microresist Technology Фоторезисты для импринтной литографии Microresist Technology SIPOL
Фоторезисты для импринтной литографии Microresist Technology SIPOL
  • Толщина, нм 60; 100; 200
  • Тип материала Термопласт
  • Температура стеклования Tg 63
  • Температура печати 120
  • Температура освобождения 30-50
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
Microresist Technology Фоторезисты для импринтной литографии Microresist Technology mr-I 9000M
Фоторезисты для импринтной литографии Microresist Technology mr-I 9000M
  • Толщина, нм 100; 200; 300; 500; 1000
  • Тип материала Термоотверждаемый полимер
  • Температура стеклования Tg 35
  • Температура печати 90-140
  • Температура освобождения 90-140
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
Microresist Technology Фоторезисты для импринтной литографии Microresist Technology mr- UVCur06
Фоторезисты для импринтной литографии Microresist Technology mr- UVCur06
  • Толщина, нм 240
  • Тип материала УФ-отверждаемый мономер
  • Температура стеклования Tg -
  • Температура печати 20
  • Температура освобождения 20
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
Microresist Technology Фоторезисты для импринтной литографии Microresist Technology mr- UVCur21
Фоторезисты для импринтной литографии Microresist Technology mr- UVCur21
  • Толщина, нм 100; 200; 300
  • Тип материала УФ-отверждаемый мономер
  • Температура стеклования Tg -
  • Температура печати -
  • Температура освобождения -
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
Microresist Technology Фоторезисты для импринтной литографии Microresist Technology mr-UVCur21SF
Фоторезисты для импринтной литографии Microresist Technology mr-UVCur21SF
  • Толщина, нм 1700
  • Тип материала УФ-отверждаемый мономер
  • Температура стеклования Tg -
  • Температура печати -
  • Температура освобождения -
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
Microresist Technology Фоторезисты для импринтной литографии Microresist Technology mr-NIL 6000E
Фоторезисты для импринтной литографии Microresist Technology mr-NIL 6000E
  • Толщина, нм 100; 200; 300
  • Тип материала УФ-отверждаемая смола
  • Температура стеклования Tg 1 (до отверждения)
  • Температура печати -
  • Температура освобождения -
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
AZ Electronic Materials Фоторезисты с высоким разрешением AZ MiR 701
Фоторезисты с высоким разрешением AZ MiR 701
  • Толщина, мкм 1-1,5
  • Длина волны экспонирования i и g линии
  • Проявитель AZ 726 MIF, AZ 351B и др.
  • Сниматель Cтанд. сниматели
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
AZ Electronic Materials Фоторезисты с высоким разрешением AZ ECI 3000
Фоторезисты с высоким разрешением AZ ECI 3000
  • Толщина, мкм 1-1,5
  • Длина волны экспонирования AZ ECI 3000
  • Проявитель AZ 726 MIF, TMAH, KOH и т.п
  • Сниматель Cтанд. AZ 100 Remover и др.
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
AZ Electronic Materials Фоторезисты с высоким разрешением AZ 9260
Фоторезисты с высоким разрешением AZ 9260
  • Толщина, мкм 3-20
  • Длина волны экспонирования 320 — 440 нм
  • Проявитель AZ 400 K, AZ 300 MIF
  • Сниматель Cтанд. AZ 400T, AZ 300T
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
Dow Фоторезисты с высоким разрешением Dow MEGAPOSIT SPR 660
Фоторезисты с высоким разрешением Dow MEGAPOSIT SPR 660
  • Толщина, мкм 0,8-1,5
  • Длина волны экспонирования i-линия
  • Проявитель MF-20A series, MF-CD-26, 0.24-0.26N
  • Сниматель Cтанд. Microposit remover 1165
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
Dow Фоторезисты с высоким разрешением Dow MEGAPOSIT SPR 955 CM
Фоторезисты с высоким разрешением Dow MEGAPOSIT SPR 955 CM
  • Толщина, мкм 0,7-3,0
  • Длина волны экспонирования i-линия
  • Проявитель MF-CD-26, 0.24-0.26N
  • Сниматель Cтанд. сниматели
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
 
Dow Фоторезисты с высоким разрешением Dow UV 26
Фоторезисты с высоким разрешением Dow UV 26
  • Толщина, мкм 0,85-3,0
  • Длина волны экспонирования ГУФ
  • Проявитель MF-20A series, MF-CD-26, 0.26N
  • Сниматель Microposit remover 1165
Запросить цену в 1 клик
Купить Подробно
Показано позиций 1-15 из 438
страницы: 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10  ...  30  Далее
ПРОТЕХ
Оборудование для кристального производства ПРОТЕХ
AZ Electronic Materials
Оборудование для кристального производства AZ Electronic Materials
Allresist
Оборудование для кристального производства Allresist
Microresist Technology
Оборудование для кристального производства Microresist Technology
Dow
Оборудование для кристального производства Dow
MicroChemicals
Оборудование для кристального производства MicroChemicals
Microchem
Оборудование для кристального производства Microchem
Plan Optik AG
Оборудование для кристального производства Plan Optik AG
Tanaka
Оборудование для кристального производства Tanaka
Indium Corporation
Оборудование для кристального производства Indium Corporation
Kurt j. Lesker
Оборудование для кристального производства Kurt j. Lesker
Saint Gobain
Оборудование для кристального производства Saint Gobain
WaferWorld
Оборудование для кристального производства WaferWorld
Ferro
Оборудование для кристального производства Ferro
TECNIC INC
Оборудование для кристального производства TECNIC INC
JEOL
Оборудование для кристального производства JEOL
 
Карта сайта | Техническая поддержка anvexa.ru

Copyright © ПРОТЕХ All rights reserved. Все права защищены. Любое использование материалов, их подборки, дизайна и элементов дизайна может осуществляться только с разрешения ООО "ПРОФЕССИОНАЛЬНОЕ ОБОРУДОВАНИЕ и ТЕХНОЛОГИИ".

Москва
МКАД 38 км, владение 4Б, стр.1, офис 214
+7 (495) 662-96-25
Санкт-Петербург
ул. Ивана Черных 31-33, офис 514, БЦ «Аквамарин»
+7 (812) 643-23-55
Новосибирск
Красный проспект 220/5, офис 320
+7 (383) 325-31-55